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报道了用氟利昂CHF3和氩气Ar作工作气体的反应离子刻蚀融石英的技术,研究了气体流速、腔压和射频等离子体功率对刻蚀速度的影响,并分析了刻......
通过大量的实验研究,介绍了反应离子刻蚀的原理,分析了不同材料反应离子刻蚀的机理和关键的工艺因素,给出了工艺参数结果。......
介绍在微电子加工工艺设备的基础上研究制作8位相台阶衍射光学元件(DOE)的工艺方法。对光刻曝光、反应离子刻蚀(RIE)等关键工艺进行了实验,得到......
介绍了利用反应离子刻蚀技术制作二元光学元件的原理和方法,给出了制作结果。...
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