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新型等离子束源CVD制备a-Si:H薄膜特性的研究
采用等离子束源化学气相沉积(CVD)设备制备氢化非晶硅薄膜。使用台阶仪、UV-Vis-NIR分光光度计、X线衍射仪(XRD)及扫描电子显微镜(SEM)等......
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等离子束源
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