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纳米CeO2磨料相关论文
纳米CeO2磨料对硅晶片CMP的效果与机理研究
通过均相沉淀法制备了纳米CeO2超细粉体,并配制成抛光液对硅片进行化学机械抛光(CMP),研究了纳米CeO2磨料对硅片的抛光效果,通过建......
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纳米CeO2磨料
化学机械抛光
抛光机理
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