以Y2O3、 SiO2、Al2O和α-Si3N4为原料,采用料浆喷涂工艺在多孔Si3N4基体表面制备出致密的Y-Si-Al-O-N陶瓷涂层.研究了原料中α-Si......

真空冷喷涂作为一种有潜力的新型涂层制备工艺,已引起来自多个国家研究团队的关注。超细陶瓷或金属颗粒以数百米每秒或更高速度撞......

随着航天、航空技术的迅猛发展,飞行器的飞行速度、射击范围和打击精度快速提升,对天线罩材料的要求也随之提高。Si_3N_4陶瓷由于......

等离子喷涂技术可以对陶瓷涂层的微观结构进行调控设计,因此在制备固体氧化物燃料电池方面具有独特的优势。基于等离子喷涂方法,可......

目的通过喷雾干燥法制备用于等离子喷涂-物理气相沉积法（Plasma Spray-Physical Vapor Deposition,PS-PVD）多相沉积柱状/致密涂层的Z......