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Influence of Deposition Parameters on Surface Evolution of Sputtered Tantalum Thin Films
有从 50 nm 变化到 600 nm 的不同厚度的钽薄电影被收音机频率磁控管作为免职温度(T ) 和偏爱电压(Ub ) 的功能劈啪作响在 Si 底层......
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tantalum thin film
surface evolution
sputtering
process para
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