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辉光刻蚀相关论文

刻蚀工艺对四面体非晶碳膜生长及其性能的影响

目的研究不同等离子体刻蚀工艺对基体和四面体非晶碳膜（ta-C）的影响,并进一步考察不同电弧等离子体刻蚀时间对ta-C薄膜结构的影响。......

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四面体非晶碳膜辉光刻蚀电弧刻蚀刻蚀时间结构 tetrahedral amorphous carbon film glow etching arc etc

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