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文章介绍了在同一基底上,多种膜层的湿法刻蚀工艺机理,报导了InSb薄膜霍尔元件制造中介质隔离膜、敏感膜、欧姆接触膜等多层复合薄膜的选......
选择刻蚀在GaAs工艺中是非常重要的一步。由于湿法腐蚀存在钻蚀和选择性差,且精度难以控制,因此有必要进行干法刻蚀的研究。虽然采用反应......
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