选择性干法刻蚀相关硕士博士期刊学术论文 - 信丰网

选择性干法刻蚀相关论文

基于SiCl4/SF6的GaAs/AlAs ICP选择性干法刻蚀

报道了GaAs/AlAs的电感耦合等离子体（ICP）选择性干法刻蚀,刻蚀气体为SiCl4/SF6混合物.研究了在不同SiCl4/SF6气体配比、RF偏压电源功......

期刊

GaAs/AlAs ICP 选择性干法刻蚀 SiCl4/SF6

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