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部分脱除模板剂相关论文
CTAB修饰含不同HMI的MCM-49分子筛及其在苯甲醚与乙酸酐酰基化反应中的应用
含有模板剂HMI的MCM-49分子筛原粉在不同温度T(250,350,450,550℃)焙烧4h,随后用十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)进行修饰,制备一系列......
会议
MCM-49
部分脱除模板剂
CTAB
酰基化反应
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