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金属-铁电-绝缘层-半导体相关论文
用于非破坏性读出铁电存储器的MFIS结构的机理研究
分析了MFIS FET的工作机理以及影响MFIS电容的存储窗口特性的因素,提出用存储窗口与铁电薄膜正、负矫顽电压的差值来评价存储窗口......
期刊
铁电存储器
MFIS结构
金属-铁电-绝缘层-半导体
场效应晶体管
非破坏性读出
工作机理
MFIS
FET
NDRO
FeRAM
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