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铁电测试仪相关论文
溅射工艺制备铁电薄膜
在Pt/Ti/SiO<,2>/Si和玻璃衬底上,用射频磁控方法在低温(250℃)下沉积薄膜,然后通过热退火得到了高度取向的PZT(30/70)铁电薄膜及PLT(28/0/100)多晶铁电薄膜。初步研究了溅射气压和......
会议
溅射气压
工艺制备
铁电薄膜
铁电测试仪
剩余极化值
玻璃衬底上
退火条件
铁电特性
射频磁控
沉积薄膜
薄膜结构
热退火
取向
方法
多晶
场强
标准
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