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铜镶嵌工艺相关论文
等离子体去胶对低介电常数材料损伤的研究
随着芯片特征尺寸的降低,金属互连中的电阻和寄生电容成为限制芯片性能的一个主要因素。这使得半导体工业不得不放弃使用二氧化硅......
学位
铜镶嵌工艺
低介电常数材料
等离子体刻蚀
原位等离子体去胶
等离子体损伤
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