阴极靶相关论文
为了制备双面YiBaCuO(0〈x〈1)超导薄膜,作者设计了一种筒形加热器,对基片辐射加热。采用中空柱状阴极靶直流磁控溅射法。成功的在(0......
描述了利用射频等离子体溅射法 ,采用不同阴极在衬底Si片上形成类金刚石薄膜的杂质含量及杂质对厚度和硬度的影响分析与结果 ;比较......
【正】 19.1X—射线概述:图19—1左上方是产生X—射线的装置,灯丝发射的电子被高电压加速后,轰击由Mo、W、Cu等制作的阴极靶,于是......
讨论了粉末性能、压制压力、压坯形状对制备W-Mo复合靶分层的影响:实验表明引起W-Mo复合靶分层主要是W粉的粒度,W粉粒度越细越不好压制,压制后易......
本文详细介绍了长真空管道内表面直流溅射镀TiN膜技术和成膜系统配置。采用真空管道自体真空镀膜方法解决细长管道内表面镀膜问题,......
本文提出了一种提高溅射镀膜膜厚均匀性的方法。通过计算得到对于多晶和非晶材料制成的阴极靶在强电场气体离子轰击下,若在靶中央......
描述了利用射频等离子体溅射法采用不同阴极在衬底Si片上形成类金刚石薄膜的杂质含量及杂质对厚度和硬度的影响分析与结果,比较了DLC膜的......