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面接触特性相关论文

用于亚0.1μmCMOS器件技术中的镍硅化物研究

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学位

NiSi 镍硅化物固相反应单步快速热处理两步快速热处理杂质再分布 Kirkendall效应反应动力学反应激活能肖特基势垒分布不均匀性面接触特性

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