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反应离子束刻蚀母盘研究
对反应离子束刻蚀母盘和玻璃衬底光盘的工艺进行了探讨,在该工艺中,光刻胶用于图形掩膜,CF4气体用于反应离子束刻蚀并将预刻槽转移到玻璃......
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