高功率磁控溅射相关论文
磁控和多弧镀膜技术已经受到越来越多的重视,其中硬质膜涂层近些年得到较大的发展.人们对于装置技术、涂层体系以及对工况的理解等......
利用高功率磁控溅射(HPPMS)技术在无偏压及室温条件下,采用(Ti,Si10at%)靶在AZ31镁合金基体上制备了Ti-Si-N涂层,在基体与涂层之间......
目的比较直流磁控溅射(DCMS)和高功率磁控溅射(HiPIMS)两种沉积技术制备的氮化铬(CrN)薄膜的结构和性能。方法采用DCMS和HiPIMS沉......
面心立方的氮化物阻氢薄膜具有极低的氢扩散系数,可以有效削弱氢在金属材料中的扩散速率,起到保护金属材料的作用,其中以TiN研究最......
利用HIPIMS与DCMS共沉积技术制备AlCrTiN复合硬质涂层，通过调控AlCr靶脉冲峰值电流来制备不同峰值电流下的AlCrTiN涂层。采用XRD、S......
目的探究高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)制备的氮化钛(TiN)薄膜在自然时效过程中,应力、薄膜/基体结合性能随时间的变化规律。方法采用......
可调脉冲磁控溅射技术(MPP)是一种新型的磁控溅射技术，MPP电源的波形电压、电流可调，可实现多台阶脉冲波形，不仅可以提高靶材的离化率......
