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(Ta2O5)0.92(TiO2)0.08薄膜相关论文
脉冲激光淀积法制备介电存储薄膜的研究
随着超大规模集成电路的发展,寻找能够替代目前使用的电容器件Si基材料是一项急待开展的研究课题。在64Mb动态随机存储器(DRAM)电容材......
学位
脉冲激光淀积
(Ta2O5)0.92(TiO2)0.08薄膜
动态随机存储器
介电常数
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