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55nm技术代相关论文

55nm双大马士革结构中电镀铜添加剂的研究

本文研究了电镀铜过程中添加剂对55nm技术代双大马士革结构的影响,为集成电路制造生产线提供有力的数据支持.在12英寸电镀设备上,......

期刊

电镀液添加剂双大马士革 55nm技术代铜互连 electroplating solution electrolyteadditive Dual Damas

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