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借助离子束背散射和沟道技术结合透射电子显微镜分析，研究了在３００Ｋ和７７Ｋ下硅中注入ＢＦ２＋辐射损伤的反常行为．结果发现ＢＦ２＋注入在硅中产生的损伤层或无......
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