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C@CuAl-LDH相关论文
基于ALD设计氧化物/氢氧化物过氧化物模拟酶的应用研究
原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)是一种先进的新型镀膜技术,可以单原子膜的形式进行逐层生长,而且可在较低温度下进行沉......
学位
原子层沉积
CuNiAl LDH
C@CuAl-LDH
NiO/Fe2O3/CNT
过氧化物模拟酶
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