为了获得高的开口率,有必要优化设计参数和工艺容差.通常的过孔刻蚀工艺采用SF6基气体进行刻蚀,但是这种方法在金属和钝化层之间的......

采用低温CF4等离子体技术，通过化学气相沉积，将一般疏水聚偏氟乙烯（PVDF）膜表面成功改性为接触角为169．5°±4．9°的超疏水......

采用射频等离子体化学气相沉积设备，以CF4为反应气体，进行了无水胶印版材斥墨层制备的实验。研究了不同等离子体参数（功率、气压和时......

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