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计算机硬盘基片的亚纳米级抛光技术研究
随着计算机磁头与磁盘间隙的不断减小,硬盘表面要求超光滑(亚纳米级粗糙度).化学机械抛光技术是迄今几乎唯一的全局平面化技术.研......
期刊
化学机械抛光(CMP)
硬盘基片
亚纳米级粗糙度
CMP机理
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