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本文使用清华大学微电子学研究所自主研发的UHV/CVD系统深入研究了图形外延SiGe工艺,分别选用单一的SiO2介质层和SiO2/Poly-Si复合......
本文主要介绍了一种用于微波电子回旋共振CVD系统的新型磁场结构,提出了磁场线圈与沉积室永磁体单元组合的结构,并对这一结构及其......
利用UHV/CVD系统进行了Si〈,1-X〉Ge〈,x〉/Si外延,分别用二次离子质谱仪(SIMS)和SSM-150型扩展电阻仪测量了其过渡层,并用扩散理论进行了分析。......
SiGeC三元合金近年来日益成为人们研究的热点之一。碳的加人为SiGe系统在能带和应变工程上提供了更大的灵活性。处于替代位置的碳......
用一台常规的真空镀膜机改建为化学相沉积(CVD)系统,并用以制备金刚石薄膜,采用SEM,XRD,Raman测试表明,金刚石薄膜质量较好。......