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采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅(111)衬底上沉积了CrCN镀层以研究C靶电流对镀层显微硬度的影响,并通过X射线衍射、原......
应用非平衡磁控溅射离子镀技术在6204轴承钢球、45JHJ钢片及单晶硅片的表面制备出CrCN复合镀层,对CrCN复合镀层的表面粗糙度和摩擦......