ECR—CVD相关论文
采用电子回旋共振微波等离子体化学气相沉积技术(ECR-CVD),CH4和H2为气源,分别以Fe3O4,Co纳米粒子及Fe(NO)3溶胶为催化剂在多孔硅......
以Fe3O4纳米粒子为催化剂,CH4,B2H6和H2为气源,采用电子回旋共振微波等离子体化学气相沉积技术(ECR-CVD)在多孔硅基底上制备出了掺......
为了简化多电磁线圈MWECR—CVD装置，提出将单个电磁线圈和一个永磁体单元组合，以形成所需的新型磁场，这一磁场可使等离子体集聚于样片......
采用ECR微波等离子体增强化学气相沉积的方法于C2H2，／H2／Ar2等离子环境中在单晶Si（111）晶面上制备了不同厚度的DLC膜样品．研究了薄膜的厚......
