GeC薄膜相关论文
用射频磁控反应溅射法在ZnS衬底上制备了GeC薄膜,研究了工艺参数对Ge靶溅射及GeC薄膜红外透射性能的影响.衬底温度较低时GeC薄膜中......
该文以在ZnS头罩制备增透保护膜系为目标,开展了膜系设计、膜厚分布的模拟、GeC和GaP耐久性薄膜及其膜系的制备、头罩镀膜计算机控......
采用磁控溅射技术,以碳氢气体和氩气为工作气体,在Ge基底上制备了GeC薄膜。研究了靶压对薄膜折射率的影响,发现在较高的靶压下制备的G......