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本文讨论了新生产线上一种步进机，它是由美国半导体制造技术联合体和它的几个子公司联合开发的。它应用ｉ线（３６５ｎｍ）和深紫外（ＤＵＶ２４８ｎｍ）波长，具有高数值孔......
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基于双层胶i线光刻工艺,对0.25μm T型栅制作技术进行了优化,采用Relacs工艺处理方法缩短了栅长,满足了栅长精度要求,通过工艺优化......
