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LCVD制备多晶硅膜实验研究
用CWCO_2激光诱发SiH_4反应,在石英基片上淀积多晶硅膜,它的Raman谱表明,激光诱发反应时间越长,结晶度越高.SEM 结果表明,不同淀积......
期刊
多晶硅
膜
裂解
LCVD技术
Polysilicondepositiondecomposition mechanism.
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