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LB技术制备大面积超薄PMMA抗蚀层的研究
采用自行研制的LB自动提膜装置,制备出大面积(100×8cm^2)、高质量的PMMA超薄抗蚀剂膜,并将其用于高分辨率铬掩模版的研制。通过电子束曝光,湿法蚀......
期刊
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制造
超薄抗蚀层
半导体器件
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fabrication mask
ultrathin resist layer
Langmuir-Boldg
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