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OPC(光学临近效应修正)相关论文

65nm光罩数据制备流程的研究

分辨率增强技术在65nm及以下光刻工艺的广泛使用,造成了光罩数据文件容量惊人的增长和光罩刻制造性的困难。本研究工作以新的数据......

学位

MDP(光罩数据制备流程) GDSII OASIS OPC(光学临近效应修正) MRC(光罩可制造性检查) DRC(设计规则检查)

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