我们研究小组以PbTe为研究对象,做了三方面工作:在ITO(铟锡氧化物)玻璃上制备了PbTe薄膜;在硅衬底上制备了Cr掺杂的PbTe薄膜;通过......

采用分子束外延（MBE）方法在Ba F2（111）衬底上直接外延生长了Pb Te薄膜。反射高能电子衍射（RHEED）实时监控的衍射图样揭示了Pb Te在Ba F2（1......

采用射频磁控溅射法,在单面抛光的Si（111）衬底上制备了PbTe薄膜,利用X射线衍射法分析了溅射工艺参数如溅射功率、溅射时间、衬底温度......

利用磁控溅射法在BaF2（111）单晶衬底上生长了PhTe薄膜，通过原子力显微镜（AFM）、X射线衍射（XRD）、傅里叶红外透射谱（FTIR）表征了溅射PbTe/BaF......

采用直流磁控溅射的方式，用PbTe靶材溅射沉积在玻璃基底上得到了PbTe薄膜，薄膜生长速率约为100nm／min，通过控制溅射时间可沉积几纳米到......