RF溅射I-V曲线相关硕士博士期刊学术论文

用高频溅射法在P型硅衬底上生长了纳米硅薄膜，衬底温度控制在95％左右，工作气体选用H2＋Ar，氢气的分压控制在31％到70％，同时改变薄膜的沉积时......