为了研究Al和V掺杂对TiN薄膜微结构的影响，用磁控溅射法在AISI M2高速钢上沉积TiN、TiAlN和TiAlVN薄膜。采用XRD、SEM和TEM对薄膜的......

为了研究Al和V掺杂对TiN薄膜微结构的影响,用磁控溅射法在AISI M2高速钢上沉积TiN、TiAlN和TiAlVN薄膜。采用XRD、SEM和TEM对薄膜......

向TiAlN薄膜中添加V可改善薄膜性能。采用磁控溅射技术沉积了不同V含量的TiAlVN薄膜，通过能谱仪、台阶仪、X射线衍射仪（XRD）和原子力......

利用反应磁控溅射技术,通过调节N2流速在单晶硅（n-110）表面制备了不同N含量的氮化铝钛钒（TiAlVN）薄膜。利用扫描电子显微镜（SEM）、纳米压......