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ZGO薄膜相关论文
基体温度对中频磁控溅射制备的氧化锌镓薄膜性能的影响
利用中频磁控溅射方法,溅射Ga2O3含量为5.7wt.%的氧化锌镓陶瓷靶材,在不同的基体温度下制备了ZGO薄膜。研究了基体温度对ZGO薄膜的晶体......
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Magnetron sputteri
功率密度对中频磁控溅射制备的氧化锌镓薄膜性能的影响
利用中频磁控溅射方法,溅射Ga2O3含量为6.7wt%的氧化锌镓陶瓷靶材,在低温下(约40℃)制备了ZGO薄膜.考察了溅射功率密度对ZGO薄膜的......
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溅射功率密度
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