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不同靶间距下非晶态碲镉汞薄膜生长及厚度均匀性研究

采用射频磁控溅射法在不同靶间距下生长非晶态碲镉汞薄膜并研究其生长速率、择优取向及厚度均匀性。实验结果表明随着靶间距减小及......

期刊

非晶态碲镉汞(a—Hg1-x CdxTe a—MCT) 靶间距均匀性磁控溅射 Amorphous MCT （a-Hg1-xCdxTe a-MCT） ta

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