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plasmachemicalvapordeposition(CVD)amorphoussil相关论文
α-Si3N4晶须的制备与分析
采用高频等离子体气相反应法制备的无定型氮化硅超细粉末为原料.通过在1450℃氮气气氛下,2h的热处理,使无定型氮化硅转为α相氮化......
期刊
α-Si3N4
晶须
制备
分析
等离子体
气相反应
无定型氮化硅
plasmachemicalvapordeposition(CVD)amorphoussil
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