交替移相掩模相关硕士博士期刊学术论文 - 信丰网

交替移相掩模相关论文

一种用于标准单元版图交替移相掩模相位兼容性规则检查的工具

介绍了一套基于相位冲突图的生成和处理的新方法，可以准确、全面地对由传统方法设计的标准单元版图(暗场)进行检查．基于此方法的软件......

期刊

交替移相掩模相位冲突图标准单元

超深亚微米集成电路可制造性验证与设计技术研究

当集成电路生产工艺发展到纳米级时，利用现有的曝光设备(248nm和193nm)，由于所谓的光学邻近效应，集成电路制造厂商已经无法制造出满足......

学位

可制造性验证分辨率提高技术光学邻近校正交替移相掩模分辨率提高技术

看过本文同时还关注