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光刻胶涂覆工艺相关论文
Ⅳ型凹面全息光栅制作中的涂胶模型及工艺研究
Ⅳ型凹面全息光栅是一类重要的分光元件,它具有自聚焦和消像差特性,在现代光谱仪器中有着广泛的应用。但是,由于设计和制作比较困难,国......
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全息光栅
凹面光栅
数学模型
离心式涂胶
光刻胶涂覆工艺
光谱仪器
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