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本文采用火焰水解法(FHD)在单晶Si片上快速淀积SiO/SiO-GeO厚膜,再经过高温玻璃化处理,获得了玻璃态的平面波导材料.下包层SiO膜的......
会议
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采用火焰水解法 (FHD)在Si基上淀积SiO2 预制材料 ,然后在真空中 空气气氛中高温处理 (1 380℃ ) ,制得玻璃化的SiO2 膜材料 ;该材......
期刊
采用火焰水解法在Si片上快速淀积SiO2 厚膜材料,材料膜厚达到40 μm以上,生长速率达8 μm/min.然后将该材料分别在真空中/空气气氛......
