本文通过Kramers-Kronig方程将半导体的折射率与其吸收系数联系起来,从而将对折射率的讨论转为对吸收系数的讨论。通过理论分析,将......

介绍Ｘ光激光薄膜锗靶的制备工艺，在厚度为９０ｎｍ和ｆｏｒｍｖａｒ膜上，采用磁控溅射技术沉积３０～６０ｎｍ厚的锗膜，对锗膜的应力进行了初步的测试与分析，制得的薄膜经干涉......

实验研究发现,采用离子束辅助沉积技术能改进膜层的性能,消除或减小膜层的应力.由实验得到:为保证锗膜具有较好的光学性能和机械性......

1.在传统的真空蒸发法制备薄膜过程中，蒸发源和基底之间都有一个温度梯度，用来作为薄膜生长的主要动力。本实验中设计了一种等温薄膜......