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射频磁控溅射中杂散磁场对Ni<,80>Co<,20>薄膜各向异性的影响
射频磁控溅射中杂散磁场对Ni<,80>Co<,20>薄膜各向异性的影响
来源 :第十届全国磁学和磁性材料会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:l1301wz
【摘 要】
:
该文报道了在射频磁控溅中靶基内的磁体所产生的杂散磁场对沉积的NiCo单层膜的面内各向异性的影响,发现该杂散磁场对较薄的NiCo单层膜衣导出感生各向异性。
【作 者】
:
龙建国
潘明虎
陈景
杜军
胡安
鹿牧
【机 构】
:
南京大学物理系
【出 处】
:
第十届全国磁学和磁性材料会议
【发表日期】
:
1999年期
【关键词】
:
射频磁控溅射
杂散磁场
薄膜
面内各向异性
感生各向异性
单层膜
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磁体
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该文报道了在射频磁控溅中靶基内的磁体所产生的杂散磁场对沉积的Ni<,80>Co<,20>单层膜的面内各向异性的影响,发现该杂散磁场对较薄的Ni<,80>Co<,20>单层膜衣导出感生各向异性。
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