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控制刻蚀SiC基片微观台阶形貌的工艺方法
【机 构】
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中国电子科技集团公司第十三研究所,石家庄 050051
【出 处】
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2014`全国半导体器件产业发展、创新产品和新技术研讨会暨第七届中国微纳电子技术交流与学术研讨会
【发表日期】
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2014年期
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