【摘 要】
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用直流反应磁控溅射设备,在不同O/N比率条件下,在铜片和载玻片上制备了TiNxOy薄膜.用分光光度计、n&k薄膜光学分析仪和台阶仪测试了样品的反射率、光学常数(n&k)及膜厚.结果发现随O/N比率提高,薄膜的吸收率、190～900nm范围内的平均折射率、500nm附近的折射率和450nm处的消光系数有了明显提高;但O/N比率过高时,薄膜热发射率增加,700nm处的k值和沉积速率急剧减小。
【机 构】
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华南理工大学材料学院,广州,510640 中山大学,广州,510275
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用直流反应磁控溅射设备,在不同O/N比率条件下,在铜片和载玻片上制备了TiNxOy薄膜.用分光光度计、n&k薄膜光学分析仪和台阶仪测试了样品的反射率、光学常数(n&k)及膜厚.结果发现随O/N比率提高,薄膜的吸收率、190～900nm范围内的平均折射率、500nm附近的折射率和450nm处的消光系数有了明显提高;但O/N比率过高时,薄膜热发射率增加,700nm处的k值和沉积速率急剧减小。
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