关于强流ECR质子源氢等离子体发射光谱的诊断研究

来源 :2010全国荷电粒子源、粒子束学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tedious
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
2009年,为了满足清华大学微型脉冲强子源(CPHS[1])中的质子直线加速器注入系统的供束需求,中科院兰州近代物理研究所为清华大学工程物理系强子应用研究中心设计建造一台强流ECR质子源(2.45 GHz,1.5 KW),目标是产生50keV,60mA的脉冲质子束(50Hz/0.5 ms)。 其中质子源中的氢等离子体的离子密度对于质子源束流的引出特性以及核心部件(磁场构型,微波溃入)的控制有重要的参考意义。本文中,我们通过发射光谱的诊断方法,利用H2等离子体的辐射碰撞模型[2],对在连续溃入的微波功率和全永磁磁场的约束下下产生高密度的H2等离子体进行光谱诊断,计算出在一定的放电条件下(P微波=206~700W,P压强=0~2 Pa),H+的密度约为1010~1011 cm-3,此外,我们还将对该实验中观察到的balmer系氢原子发射光谱强度随放电条件的变化规律进行讨论。
其他文献
SEM)形貌分析,并在动态真空系统中测试阴极的电子发射特性。试验结果表明浸渍阴极经过表面离子刻蚀和镀覆锇膜后,阴极发射性能得到显著提高,这将有利于延长阴极寿命并能够在
采用等离子表面合金化技术在不锈钢表面制备含Nb合金层,分析了典犁渗层的显微组织形貌、成分分布及相结构,考察了含Nb含金层的腐蚀性能。结果表明,优化的工艺参数为:温度1100
会议
期刊
高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS)由于具有溅射粒子离化率高,可以沉积致密、高性能薄膜,作为一种新技术已经在国外广泛研究。本文采用高功率脉冲非平衡磁控溅射技术(HPPUMS)制
在430℃对AISI304奥氏体不锈钢分别进行离子渗氮(NT)、离子碳氮共渗(NTC)和离子碳氮共渗复合离子渗氮(NTC+NT)处理。利用金相显微镜、辉光放电光谱仪(GDS)、X射线衍射仪(XRD)
会议