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会议论文
预曝光对于连续浮雕微结构制作的影响
预曝光对于连续浮雕微结构制作的影响
来源 :第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛 | 被引量 : 0次 | 上传用户:aqwww8
【摘 要】
:
简述了预曝光在极坐标激光直写法制作连续浮雕微结构技术中的作用原理及应用,研究了预曝光技术对于连续浮雕微结构制作的影响规律,提出了在极坐标激光直写法制作连续浮雕微结
【作 者】
:
王多书
罗崇泰
刘宏开
叶自煜
【机 构】
:
兰州物理研究所表面工程国家重点实验室,兰州,730000
【出 处】
:
第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛
【发表日期】
:
2006年期
【关键词】
:
预曝光
连续浮雕
微结构技术
制作
直写法
极坐标
作用原理
曝光技术
激光
应用
规律
方法
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简述了预曝光在极坐标激光直写法制作连续浮雕微结构技术中的作用原理及应用,研究了预曝光技术对于连续浮雕微结构制作的影响规律,提出了在极坐标激光直写法制作连续浮雕微结构过程中替代预曝光的方法。
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