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用卤钨灯照射的方法对非晶硅薄膜做退火，得到了多晶硅薄膜，它与传统炉子退火相比，退火时间大大缩短。用XRD 衍射谱、暗电导率等手段对其进行了测量。另外对部分样品的照射光做了滤波，滤掉了波长600nm 以下的光，发现对晶化及晶粒尺寸都有一定的影响。
用光诱导晶化制备多晶硅薄膜
【摘 要】
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用卤钨灯照射的方法对非晶硅薄膜做退火，得到了多晶硅薄膜，它与传统炉子退火相比，退火时间大大缩短。用XRD 衍射谱、暗电导率等手段对其进行了测量。另外对部分样品的照射光做了
【机 构】
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郑州大学物理工程学院
【出 处】
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第八届全国光伏会议暨中日光伏论坛
【发表日期】
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2004年期
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