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<正>本成果主要研究内容为:研究重掺砷硅片的缺陷显示方法;重掺砷硅片背面机械损伤;重掺砷硅片的外延以及背封对外延自掺杂的抑制;重掺砷硅片中杂质对外延及器件的影响。研究开发的择优腐蚀液和缺陷显示技术获发明专利号031 15479.4,此技术能清晰、灵敏、可重复地显示重掺砷硅片中的品格缺陷,并能应用于其他重掺硅片和轻掺硅片的缺陷显示,陔缺陷显示技术达到了