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O<,2>反应离子刻蚀是微细加工领域图形转移、去除残余光刻胶和超细线产生的一种有效方法.本文介绍了O<,2>反应离子刻蚀在全息离子刻蚀衍射光栅制作中的应用,给出了实验结果.
O2反应离子刻蚀在全息离子束刻蚀衍射光栅中的应用
【摘 要】
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O反应离子刻蚀是微细加工领域图形转移、去除残余光刻胶和超细线产生的一种有效方法.本文介绍了O反应离子刻蚀在全息离子刻蚀衍射光栅制作中的应用,给出了实验结果.
【机 构】
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中国科学技术大学国家同步辐射实验室(合肥)
【出 处】
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第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会
【发表日期】
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2001年期
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