用GOI技术减少GaAs材料在Y瞬时辐射时产生的光电流

来源 :第六届全国固体薄膜学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lxzshenzhen
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对嵌有AlAs薄层的GaAs外延材料在450℃下用水汽测壁氧化的方法使之成为具有Al<,2>O<,3>绝缘缓冲层的GaAS多层外延材料(GOI)将该材料与一般GaAs材料同时进行Y瞬时辐射实验。结果表明:该材料比一般常规材料的防时脉冲光电流有明显下降,具有较强的抗丫瞬时辐时的能力。
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