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会议论文
多变量控制系统仿真平台SimPlat
多变量控制系统仿真平台SimPlat
来源 :中国控制会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cyddvd
【摘 要】
:
作者基于变阶变步长的Gear算法研制了一种在Windows环境下的新的面向框图、矩阵和信号的智能仿真平台Simplat,它具有友好的人机界面,功能强,使用方便,能仿真线性和非线性系统,为控制系统的智能设计提
【作 者】
:
夏凡
葛军
高黛陵
【机 构】
:
清华大学自动化系(北京)
【出 处】
:
中国控制会议
【发表日期】
:
1998年期
【关键词】
:
多变量
控制系统的智能设计
非线性系统
变阶变步长
人机界面
面向框图
仿真平台
信号
算法
矩阵
环境
功能
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作者基于变阶变步长的Gear算法研制了一种在Windows环境下的新的面向框图、矩阵和信号的智能仿真平台Simplat,它具有友好的人机界面,功能强,使用方便,能仿真线性和非线性系统,为控制系统的智能设计提供了有效工具。
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白蚁
危害现状
同步辐射形貌术观察GdCa<,4>O(BO<,3>)<,3>晶体中的小角晶界
采用Czochralski法,我们成功地生长了大尺寸GdCaO(BO)单晶.在对晶体的完整性进行检测的过程中发现:晶体中存在亚晶界,该晶界贯穿整个大单晶.由于亚晶界两边的单体存在取向差,
会议
同步辐射形貌术
晶体
亚晶界
取向差
射线衍射
漂移
计算
大单晶
完整性
高分辨
检测
单体
尺寸
测量
用商用Gd制备的Gd<,5>Si<1.85>Ge<2.15>的结构变化研究
采用国产商用普通Gd和在此基础上提纯的高纯Gd制成GdSiGe两种样品,在220~300K温度范围内对样品进行热膨胀测试,然后在T=200K和T=298K温度下,进行X射线衍射测试,结果发现两种样
会议
商用
样品
温度范围
射线衍射
晶体结构
结构相变
测试
热膨胀
高温区
低温区
提纯
基础
新相Gd<,3>(Fe,Co,Cr)<,29>化合物的磁性
研究了GdFeCoCr化合物的结构与磁性.这些化合物都具有Nd(Fe,Ti)型结构,A2/m空间群.得到3:29型单相GdFeCoCr化合物的Co含量和稳定元素Cr含量有关.Co原子的含量越高,所需稳定元
会议
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GeSi超晶格和SiGeSi量子阱的SHG
会议
Ge/Si超晶格
SiGe/Si量子阱
SHG
Ge组分对SiGe合金退人行为的影响
采用快速热退人对外延SiGe/Si合金样品进行热处理。用双晶调X-rav衍射、Raman,RBS分析样品的应变及组分变化。结果表明大组分(>0.3)合金在退火时有明显的互扩散发生,组分越大,互扩
会议
组分变化
合金
人行为
互扩散
分析样品
热处理
衍射
外延
退火
速热
GeSi(100)界面互扩散的喇曼光谱研究
该文利用喇曼光谱研究了不同温度下在Si(100)衬底上异质外延Ge层由于扩散引起的Ge/Si异质结界面互混以及表面活化剂Sb对其的影响。结果表明表面活化剂Sb的存在大大抑制了界面
会议
Ge/Si界面
喇曼光谱
Ge组分对SiGe合金退火行为的影响
采用快速热退火对外延SiGe/Si合金样品进行热处理。用双晶X-ray衍射,Raman,RBS分析样品的应变及组分变化。结果表明大组分(>0.3)合金在退火时有明显的互扩散发生,组分越大,互扩散越
会议
组分变化
合金
退火行为
互扩散
快速热退火
分析样品
热处理
衍射
外延
磁控反应溅射Ge<,x>C<,1-x>薄膜的光学性能
利用射频磁控反应溅射法,以Ar、CH为原料气体,在较宽的工艺参数范围内制备出了Ge-C薄膜。用可见光光度计及傅立叶红外光谱对薄膜的光学性能进行了研究。结果表明,随CH流量的增加
会议
射频磁控反应溅射法
薄膜
工艺参数
傅立叶红外光谱
折射率
可见光光度计
红外增透膜
原料气体
光学性能
膜沉积
实验
设计
膜系
流量
光变
多层
衬底
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